...Группа компаний "Лазер-компакт"
- разработка, производство, продажа
твердотельных лазеров с диодной накачкой....
Сертифицировано по ISO 9001:2008

TECH-263

Применение: микрообработка материалов, лазерная маркировка, фотоакустика, ЛИЭС (лазерно-искровая эмиссионная спектроскопия), прямое лазерное нанесение интерференционных изображений (DLIP), масс-спектрометрия, ЛИДАР, лазерная флуоресценция, научные исследования, абляция.

Отличительные черты:
    • Активная модуляция добротности с наносекундной длительностью импульса
    • Высокая энергия в импульсе и пиковая мощность
    • Отличное качество пучка
    • Компактный дизайн
    • Кондуктивное охлаждение излучателя
    • Внешний / внутренний запуск, управление от ПК через RS-232  

 

 

Листовка

Параметр / Модель TECH-263
Basic Advanced
Длина волны, нм 263
Режим работы с модуляцией добротности, внешний/внутренний запуск
Средняя энергия лазерного излучения в импульсе1, мкДж 10 25 50
Длительность импульса (по полувысоте)1, нс і5 і 4 і3
Пиковая мощность1, кВт 2 6 і 16
Диапазон частот повторения импульсов, кГц
   Внешний запуск2
   Внутренний запуск: через RS-2323
                                  без подключения к ПК4
одиночный импульс - 4
0.01 - 4
1 0.01

 

одиночный импульс - 1
0.01 - 1
1а0.01
Нестабильность энергии от импульса к импульсу ( среднеквадр. отклонение/среднее значение)1, % 15 і 10
Долговременная стабильность средней мощности ( среднеквадр. отклонение/среднее значение)1, % в 2
Профиль и качество пучка TEMoo, M2 в 1.3
Диаметр пучка ( в, на выходной апертуре), мм 1.5 п 0.3
Расходимость лазерного излучения
(полный угол, ), мрад		 1
Поляризация линейная, 100:1, вертикальная ( 5)
Задержка между запускающим импульсом и выходным синхроимпульсом1,5 , нс (при средней энергии в импульсе 80%):
   Время задержки (значение в диапазоне)
   Нестабильность задержки

 



300 250 *
8 *

Задержка между лазерным импульсом и выходным синхроимпульсом1,5 , нс (при средней энергии в импульсе а 80%):
   Время задержки
   Нестабильность задержки

50
2
Время готовности, мин в 10
Управление параметрами лазера через интерфейс RS-232 вкл/выкл, внешн./ внутр. запуск, частота и энергия импульсов
Скорость обмена через интерфейс RS-232, бит/сек 4800
Напряжение питания, В 24 а10%
Максимальный потребляемый ток, A в5 в4
Потребляемая  мощность, Вт 15-706 20-1006
Тепловыделение излучателя, Вт 5-206 5-306
Диапазон рабочих температур / Отн. влажность +15 to +35 / до 80% без конденсации
Диапазон температур при транспортировке / Отн. влажность (в упаковке производителя) от -20 до +50C / до 80% при 25C
Размеры  излучателя (Д x Ш x В), мм 215 x 70 x 40
Конструктивная высота луча относительно основания излучателя, мм 21.5 а0.5
Масса излучателя, кг 1.2 а0.1
Размеры блока питания (Д x Ш x В), без  УВО6, мм макс. 230 x 148 x 47
Масса блока питания без УВО, кг 1.9 а0.1
Масса УВО для блока питания, кг 1.7 а0.1
Длина волоконного кабеля, м 1.5 а5%
Минимальный радиус изгиба волоконного кабеля, мм 50
Длина шнура соединения излучателя с БП, м 1.5 а5%
Класс лазерной опасности IV
Соответствие требованиям CE, RoHS
Чертеж излучателя Drawing
Чертеж блока питания Drawing
Чертеж УВО для блока питания Drawing

* Для линий Advanced, Express, Specific: Время задержки и нестабильность задержки указано для случая запуска импульсом длительностью 800-900 мкс (значение определяется производителем). Отсчитывается от заднего фронта запускающего импульса. В случае запуска передним фронтом, время задержки составляет 800-900 мкс, нестабильность задержки - около 2% от времени задержки.

1 На частоте повторения импульсов 1 кГц.
2Запуск с использованием внешнего импульсного генератора. Генератор не входит в  комплект поставки.
3 Генерация периодических лазерных импульсов с использованием ПК, шаг 0,01 кГц. Средняя энергия может быть изменена посредством программного обеспечения от 10% до максимального значения.
4 Генерация периодических лазерных импульсов на фиксированной частоте; внешний генератор и/или ПК не нужны.
5 Выходной синхроимпульс генерируется по факту прохождения лазерного импульса.
6 В зависимости от частоты повторения импульсов. Устройство воздушного охлаждения (УВО) для излучателя должно использоваться при необходимости, в зависимости от условий окружающей среды и рабочей частоты.

 

Пример применения

 

Прямое лазерное нанесение интерференционных изображений (DLIP) Выполнено на установке DLIP-Fab, разработанной Fraunhofer IWS и Дрезденским Техническим Университетом, с использованием лазера ТЕСН-263. Подробнее о применении

 

v

 

PET пластик